Компания sokudo выпускает первое в мире литографическое оборудование на две линии

Компания sokudo выпускает первое в мире литографическое оборудование на две линии

Компания Sokudo Co., ЛТД. сказала о новом техническом прорыве – запуске проявления фоторезиста и технологии нанесения – SOKUDO DUO, которая снабжает сверхвысокую производительность, нужную для оптимизации современных фотолитографических процессов.

Оборудование, применяющее новую разработку, включает в себя две свободных линии для одновременной обработки подложек, что значительно поднимает производительность процесса – до 250–300 подложек в час. Наряду с этим, производительность, в зависимости от конфигурации микросхемы, по большей части, повышена за счет повышения действенного рабочего времени и понижения непроизводительного времени на холостой ход и простои.

SOKUDO DUO- первая важная технологическая платформа, созданная СП компаний Dainippon Screen Mfg. Co., ЛТД., Япония и Applied Materials, Inc., США. Уже первые пара промышленных внедрений в Азии и японии подтвердили высокую продуктивность совокупности, как заявил председатель совета директоров компании господин Тадахиро ЖД (Tadahiro Suhara).

Кроме только высокой производительности, идеология разработки SOKUDO DUO снабжает весьма высокую надежность процесса и оборудования. Потому, что производственная нагрузка равномерно распределяется между двумя технологическими линиями, скорость продвижения подложки возможно уменьшена кроме того для самых производительных режимов. Второй несомненный плюс совокупности – возможность работы в режиме нон-стоп.

Кроме того в случае если одна из линий остановлена на обслуживание, процесс не прерывается благодаря второй линии, наряду с этим, соответственно не прерывается и фотолитографический процесс в целом.

Конструкция SOKUDO DUO повышает производительность до 40% на единицу оборудования. Только высокая герметичность и экологическая чистота самой совокупности разрешают применять намного менее чистые производственные помещения если сравнивать с классическим оборудованием для нанесения, спекания и проявки фоторезиста.

Благодаря множеству новшеств в технологии и конструкции, внедренных в совокупность, платформа SOKUDO DUO способна поддерживать множество сложных литографических процессов, включая иммерсионную разработку двойной экспозиции с применением излучения ArF лазера.

Евгений Биргер

Опубликовано вNanoWeek,

  • Прошлая статья:Российская Федерация будет развивать высокие разработки в кризисное время
  • Следующая статья:«Роснано» в 2009 году направит на финансирование проектов 31,5 млрд рублей

Оборудование для лакировки и литографии пищевой жести — Tinplate Printing Machine,Coating Machine


Темы которые будут Вам интересны: